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据中国光谷公众号，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶规模终了紧要碎裂。 武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶居品，已通过半导体工艺量产考据，终了配方全自主筹画，有望始创国内半导体光刻制造新处所。 该居品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的海外同系列居品UV1610，T150 A在光刻工艺中发扬出的极限别离率达到120nm，且工艺优容度更大，踏实性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺发扬更为友好，通过考据发现T150 A中